納米級制程對水質(zhì)要求高，低濃度氟離子也會引發(fā)問題：腐蝕晶圓金屬薄膜與絕緣層，導(dǎo)致電路缺陷、良品率下降；同時(shí)干擾光刻等后續(xù)工藝精度。

回用水中氟離子超標(biāo)會形成“污染循環(huán)"，晶圓廠通常將其內(nèi)控濃度設(shè)為0.1mg/L以下，遠(yuǎn)超常規(guī)排放標(biāo)準(zhǔn)。

氟化物有毒且易累積，不當(dāng)排放會污染水土、危害人體健康。國內(nèi)外已出臺嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)，管控半導(dǎo)體行業(yè)氟離子排放。

國標(biāo)GB39731-2020規(guī)定，氟化物直接排放限值10mg/L、間接排放20mg/L；地方標(biāo)準(zhǔn)更嚴(yán)，以上海DB31/199-2018為例，直接排放限值收緊至8mg/L，還強(qiáng)制在線監(jiān)測設(shè)備具備校準(zhǔn)、數(shù)據(jù)存儲及遠(yuǎn)程傳輸功能，超標(biāo)將面臨重罰。